（2025年3月29日更新）

ULVAC-PHI 有限公司(神奈川县茅崎市) 原 泰博)推出了追求高自动化和精简操作的产品「PHI GENESIS」全新多功能扫描 X 射光电子能谱分析仪（XPS：X-ray Photoelectron Spectroscopy 又名 ESCA: Electron Spectroscopy for Chemical Analysis）。

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扫描式 X 射光电子能谱分析仪「PHI GENESIS」外观

【背景】
不同的复合材料被广泛应用于推动全球产业链的全固态电池、先进的半导体和光催化剂。在材料研发中，不仅要求材料的性能和优化材料界面的粘附性能，还需要与时间赛跑。为了满足日新月异、复杂的表面和界面分析需求，加快材料的研发，我们推出了新的产品 XPS 表面分析仪不仅基本性能强，自动化程度高，而且能满足客户的各种个性化要求。这就是 ULVAC-PHIAOS代理 新推出的扫描式 X 射光电子能谱分析仪— PHI GENESIS。

【概述】
「PHI GENESIS」XPS 将大进化的基本性能置于高空间利用的外壳中，保持50 年传统的 PHI XPS 该系列的核心基因提高了自动化，成为最新的科研仪器，大大缩短了分析时间，具有可扩展性。

「PHI GENESIS」XPS 通过自动样品交换和多点分析功能，结合高灵敏度分析仪，提供快速、高灵敏度和微区域 XPS 分析。迄今为止，ULVAC-PHI 和Physical Electronics USA 许多世界首创 XPS (扫描微聚焦型) X 射线，全自动化 XPS 通过硬分析、自动中和绝缘体分析、用簇离子蚀刻枪对有机材料进行深入分析 X 射线对无机材料进行无破坏性深入分析)。将这些技术整合到仪器中，可以为金属、半导体、陶瓷和有机物提供尖端材料 XPS 分析技术。

PHI GENESIS 另一项创新是对易用性的追求。新软件旨在为各级用户提供快速使用。无论是表面分析的初学者还是尖端科学家，造现场和尖端开发研究机构用户的习惯和需求。ULVAC-PHI它还提供了实验室级的硬硬 X 在实验室环境中，射线选项也可以采用大型同步辐射光源进行高级分析。

PHI GENESIS 不仅支持最先进的复合材料分析，还可以分析复合设备的产品。目标是加快全球研发。

【上市时间】
2023 年 4 月