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纳米尺度芯片Art DFM仿真平台
(2024年9月28日更新)

基于65/45/40/28纳米铜和28纳米高k金属栅CMP工艺及DFM设计规则,研究小组开发了一套平坦和寄生效应,与行业主流完全兼容EDA工具的DFM该平台具有超大规模地图快速处理的模拟平台,ECP/CVD/PVD/CMP工艺模拟、热输出、反标等功能。通过布局CMP分析检查,找出热点区域填充冗余金属,并根AVX代理根据设计要求进行修正,形成CMP模拟与参数提取相结合DFM优化流程。DFM该平台解决了快速并行处理复杂超大布局的技术问题,能够满足65/45/40/28纳米全芯片布局处理的要求。该平台的性能已达到行业先进水平,并已通过OEM和科研机构的严格测试和验证,各项指标均达到行业使用标准。DFM该平台可以整合第三方研究结果,模拟输出可以与行业主流寄生参数提取工具无缝连接,准确提取寄生参数,提高顺序的收敛性。

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