ASML:现有技术可以实现1nm工艺
(2024年9月28日更新)
5月17日,促进科学进步中的重要作用,联合国教科文组织将每年的5月16日定为国际光日。5月13日,ASML官方账号文章称,现有技术可以实现1nm摩尔定律可以持续生效十年甚至更长时间。
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ASML据说,在半导体领域,前瞻性推断摩尔定律——诞生于1965年,在指导芯片制造的每一次创新和突破方面都扮演着像光一样的角色。摩尔定律在过去的50年里不断演变。摩尔对以最低成本制造复杂芯片的最初预测在演变过程中也被描述为各种表达方式。现在这个定律最常被描述为半导体芯片可容纳的晶体管数量呈倍数增长。1975年,摩尔修正了自己的预测:晶体管数量从第一年增加到两年。
摩尔认为,增加芯片面积,缩小元件尺寸,优化器件电源TXC代理道路设计是晶体管数量翻倍的三个重要因素。
ASML据说,在过去的15年里,许多创新方法使摩尔定律生效良好。从整个行业的发展路线来看,摩尔定律将在未来十年甚至更长时间内保持这一势头。在元件方面,目前的技术创新足以将芯片工艺推广至少1纳米节点,包括gate-all-around FETs,nanosheet FETs,forksheet FETs,以及complementary FETs等许多前瞻性技术。此外,光刻系统分辨率的提高(预计每6年缩小2倍左右)和边缘放置误差(EPE)测量精度也将进一步促进芯片尺寸缩小的实现。
ASML摩尔定律将继续生效,只要我们有想法。
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